ASML 今年將在台徵才千人
AI運算與高效能運算(HPC)需求爆發,全球半導體產業再度掀起擴產潮,半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)也同步加大台灣布局。ASML副總裁暨台灣總經理汪佳慧25日表示,因應未來業務與客戶需求持續擴大,ASML今年規劃在
涵蓋客戶服務、生產製造與供應鏈管理等領域
工商時報 張瑞益
AI運算與高效能運算(HPC)需求爆發,全球半導體產業再度掀起擴產潮,半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)也同步加大台灣布局。ASML副總裁暨台灣總經理汪佳慧25日表示,因應未來業務與客戶需求持續擴大,ASML今年規劃在台招募約1,000名人才,涵蓋客戶服務、生產製造與供應鏈管理等領域,並持續透過技術創新、設備節能與供應鏈合作,深化台灣在全球半導體生態系中的關鍵角色。
ASML指出,AI運算、高效能運算(HPC)與大型資料中心需求快速攀升,半導體產業在追求更高算力同時,也面臨能源消耗與碳排壓力。公司近年除推動設備效能提升,也同步從產品設計、營運效率與供應鏈管理著手,推進永續轉型,希望在支援AI晶片擴產之際,兼顧節能與低碳目標。
人才布局方面,ASML指出,今年台灣預計招募近千位人才,其中新北廠職缺即超過300個,主要鎖定客戶支援、智慧製造與供應鏈管理等領域,以支援全球客戶擴產與設備產能提升需求。汪佳慧表示,台灣在全球半導體供應鏈中扮演關鍵角色,ASML未來也將持續深化在地人才與技術布局,與台灣半導體產業共同成長。
除自身營運外,ASML也將減碳策略延伸至供應鏈與客戶端。公司指出,近年已逐步以海運取代部分空運降低運輸碳排,2025年已有26台設備採海運方式交付。此外,ASML也關注設備在晶圓廠實際生產時的能源使用效率,希望透過與客戶合作,進一步降低整體半導體製造的碳足跡,長期目標則是在2040年達成整體價值鏈溫室氣體中和。
設備節能部分,ASML近年持續強化EUV機台效率。旗艦EUV機型TWINSCAN NXE:3800E目前產能已由每小時220片晶圓提升至230片,並規劃2030年前將整體EUV設備晶片產出再提升50%。同時,自2018年以來,EUV設備每次晶圓曝光能耗已降低57%。
ASML指出,未來 High NA EUV 導入後,部分原本需要多重曝光的關鍵製程將簡化為單次曝光,不僅有助提高良率與縮短製程時間,也能同步降低單位晶圓製造成本與能源消耗。
來源:中時新聞網