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美調整對中晶片設備政策 續控高階製程以維持AI優勢

美調整對中晶片設備政策 續控高階製程以維持AI優勢

根據路透社所見美國國會草案最新版本,一項旨在限制更多晶片製造設備流向中國的法案已被縮減,但持續納入對艾司摩爾(ASML)深紫外光(DUV)浸潤式微影機台的全國性新限制。總部位於荷蘭的ASML是這項關鍵技術的全球主導供應商,對此拒絕評論。這項名為「硬體技術多邊協調管制法案」(MATCH Act)4月2
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